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En New York

Epson Digital Couture Project 2018

30 de Enero 2018, 13:26

Todo va quedando listo para el próximo 6 de febrero, fecha en la que se desarrollará la cuarta edición del Epson Digital Couture Project 2018, un evento innovador donde se exhibirán las colecciones de 14 diseñadores de Latinoamérica y Norteamérica que combinan la tecnología y la moda a través de la técnica de sublimación, que permite ilimitadas posibilidades de diseño con la avanzada tecnología de impresión digital de Epson. 

La talentosa diseñadora peruana, Ana María Guiulfo, representará a nuestro país en este evento internacional de moda, a realizarse previamente a la Semana de la Moda de Nueva York, y en donde presentará su nueva colección cápsula “Too Much Information”, inspirada en la energía, movimiento y colores del folclore peruano para la temporada otoño-invierno 2018. 

Para Guiulfo, este proceso es una solución de llevar el arte a la moda, y esto gracias a la tecnología de las impresoras SureColor Serie F de Epson, que proyectan un mundo de color, diversión y sofisticación. 

“La sublimación digital textil es la oportunidad para imaginar, imprimir y crear un diseño en simples pasos con un bajo costo. En Epson tenemos el compromiso de ayudar a los empresarios con nuevas formas de hacer negocios y sea sostenible en el tiempo. Ofrecemos una solución completa donde incluye el hardware incluido el cabezal Precision Core de última tecnología, software, consumibles y servicio de post venta brindado por un distribuidor especializado", aportó Alvaro Florez, Channel Manager - Large Format Printers de Epson.

Cabe destacar que el día del evento será el martes 6 de febrero desde la ciudad de Nueva York en EE. UU. y que contará con la presencia de líderes de la industria de la moda y la tecnología, así como de actores y personajes apasionados por este colorido y exigente mundo de la moda.

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